PlasmaCCP 전기장 세기 |E| 필드맵 — 축대칭 해를 r=0 기준으로 펼친 전체 직경 단면(r −230~230 mm, z 0–70 mm), 구동 전극 아래 시스와 전극 가장자리에 집중된 전기장
|E| 필드맵 · 300 mm PECVD 기준 (3 Torr · 13.56 MHz · 500 W)

RF CCP 공정 방향성 시뮬레이터

PlasmaCCP챔버를 열기 전에, 플라즈마를 보세요

지오메트리를 그리면 수 초 안에 E-field · 전자밀도 · 시스 · 유동까지. 첫 실험을 잡기 전에, 공정의 방향을 먼저 확인하세요.

회원가입도 카드도 없이 바로 실행 — 게스트 실행은 브라우저 안에서 끝나고, 챔버 형상은 서버로 올라가지 않습니다.

전체 솔브~2 sCI 벤치마크M1–M8
문헌 앵커V1–V10프리셋24
PlasmaCCP 전기장 세기 |E| 필드맵 — 축대칭 해를 r=0 기준으로 펼친 전체 직경 단면(r −230~230 mm, z 0–70 mm), 구동 전극 아래 시스와 전극 가장자리에 집중된 전기장
|E| 필드맵 · 300 mm PECVD 기준 (3 Torr · 13.56 MHz · 500 W)

§1먼저 답해야 할 세 가지

형상과 공정 입력을 결과와 판단으로 연결합니다.

질문확인할 수 있는 것
전계가 어디에 집중되는가전극 모서리, 유전체 접합, 시스 부근의 공간 변화를 비교합니다.
웨이퍼 방향성은 어떻게 바뀌는가이온 플럭스, 에너지, 균일도에서 중심-가장자리 방향성을 읽습니다.
어디까지 결과를 믿을 수 있는가검증 범위, 경고, 모델 한계를 결과와 함께 확인합니다.

§2당신의 챔버를 닮은 프리셋에서 시작하세요

24종의 공정 프리셋이 함께 제공됩니다. 여섯 개가 대표 공정군을 덮고, 각 카드는 그 프리셋의 실제 솔브 결과입니다.

§3형상이 우리 서버로 오지 않습니다

챔버 단면을 외부에 올릴 수 없다는 것 때문에 이런 검토를 포기하신 적이 있다면, 그 제약이 여기엔 없습니다.

항목동작
게스트 실행WebAssembly로 컴파일된 솔버가 내려와 그 자리에서 풉니다. 서버는 계산하지 않습니다.
형상게스트가 보내는 유일한 요청은 스칼라 24개짜리 판정 호출이고, 거기엔 지오메트리가 들어가지 않습니다.
기록게스트 실행은 런 히스토리를 만들지 않습니다. 탭을 닫으면 끝입니다.
로그인 시런 히스토리·형상 저장을 쓰려면 스냅샷이 계정에 저장되어야 합니다. 그게 싫으면 게스트로 쓰시면 됩니다.

§43단계로 끝납니다

그린다 → 실행한다 → 본다.

01그린다챔버 지오메트리를 스케치하거나 프리셋에서 불러옵니다.
02실행한다한 번의 클릭으로 축소 유체 솔버가 수 초 안에 수렴합니다.
03본다필드 · 밀도 · 시스 · 유동 맵을 나란히 읽고 다음 실행을 정합니다.

§5하나의 시뮬레이터에서 이어지는 판단

기존 기능을 줄이지 않고 설정, 결과, 검증을 한 흐름으로 정리합니다.

300 mm 기준선 · 공정 개요
최신 결과솔버: 수렴유효성: 범위 내모델: 트렌드 레벨메시: 200 × 176 FV잔차: 3.70e-9RF 위상: 미계산경고: 0 차단 / 1 노트
파라미터값단위조건
전자 온도 (0D 모델)1.83eV웨이퍼 대향 플라즈마
평균 시스 두께1.7mm전극 RF 평균
흡수 RF 전력500W인가 500 W 중 100.0%
결과 화면 그대로입니다. 숫자는 기준선 프리셋을 실제로 푼 결과입니다.
2D 필드맵|E|, 전자 밀도, 전자 온도를 챔버 단면 위에 바로 그려냅니다.
RF 위상 애니메이션Pro한 RF 주기 동안 시스와 필드가 어떻게 호흡하는지 재생합니다.
가스 유동 · 전류 스트림라인중성 가스 유동과 전류 경로를 스트림라인으로 따라갑니다.
파라미터 스윕Pro전력 · 압력 · 갭 · 주파수를 한 번에 쓸어 민감도 곡선을 얻습니다.
A/B 비교Pro두 실행을 나란히 놓고 변수 하나의 효과만 분리합니다.
지오메트리 라이브러리저장한 챔버를 버전으로 관리하고 언제든 이어서 실행합니다.

§6틀린 곳까지 공개합니다

믿을 수 있는 근거 — 문헌과 독립 코드 대비 결과.

문헌 앵커 (V1–V10)10CI 벤치마크 (M1–M8)8
자동 테스트3,200+전체 솔브~2초
안내: 독립 코드(Zapdos/MOOSE)와 맞대본 결과를 이겼든 졌든 그대로 싣습니다 — 우리 시스는 2.8배 얇게 나왔고, 그 숫자를 지우지 않았습니다. Olthoff & Greenberg 1995 — GEC 기준 셀 · Lieberman & Lichtenberg — 글로벌 모델 · Turner 2013 — PIC 벤치마크 참고.

§7한 번 돌리고 끝이 아닙니다

설계 판단은 언제나 A와 B의 비교입니다. 전극을 키울까, 갭을 줄일까, 포커스링을 바꿀까 — 그 비교를 도구로 만들어 뒀습니다.

도구설명
A/B 비교Pro두 챔버를 같은 레시피로 나란히
스플릿 테스트Pro한 번에 하나만 바꿔 그 영향만 분리
파라미터 스윕Pro압력·전력·주파수를 훑어 추세선으로
보정측정값 한 점에 모델을 맞춤
드리프트 진단챔버가 왜 달라졌는지 역으로 추정

모두 로그인이 필요하고, Pro 표시가 있는 셋은 유료 플랜에서 열립니다. 단일 실행은 가입 없이 계속 무료입니다.

§8요금제

무료 플랜은 지금 바로 전부 사용할 수 있습니다. Pro는 스윕 · A/B 비교 · 스플릿 테스트와 더 높은 메시 상한을 더하며, 유료 결제는 아직 열려 있지 않습니다.

플랜가격포함
무료₩0
  • 솔버 실행 + 모든 정적 필드맵
  • 모든 공정 프리셋 · 기준선
  • 개인 형상 20개 저장 · 런 히스토리 30개
  • 표준 메시 최대 48k 셀
무료로 시작하기
Pro곧 공개 (준비 중)
  • Compare · Split Test · 스윕
  • 턴온 트랜지언트 + GIF · RF 위상 애니메이션
  • 고해상도 메시 · 런 히스토리 + 핀 고정
자세히 보기

지금 첫 챔버를 실행해 보세요

모델 성격 안내

PlasmaCCP는 트렌드를 빠르게 스크리닝하는 축소 유체 모델입니다. 결과는 방향성 지표이며, 최종 공정 승인은 실험이나 고정밀 시뮬레이션으로 검증하세요. 검증 및 참고 문헌